北京
国家知识产权局信息显示，武汉麦韦光学科技有限公司申请一项名为“一种集成退火处理功能的基材真空镀膜设备”的专利，公开号CN122105349A，申请日期为2026年4月。
专利摘要显示，本发明公开了一种集成退火处理功能的基材真空镀膜设备，属于基材真空镀膜技术领域，其包括主机架，所述主机架上方固定安装有封闭仓；通过驱动电机的正反转调控，使活动梁臂停留在预设高度工位，依次对应退火工作腔与镀膜工作腔的定向口位置，完成基材在不同加工工位间的自动化移送切换，而工作电机能够带动连接轴以及旋扭块转动，过程中旋扭块同步带动置物板以及连接条匀速旋转，进而使得固定柱上倾斜的环形导槽槽壁推挤凸块，促使两个连接条分别带动两个托底板在置物板上方与下方交替移动，进而在置物板旋转后通过两个交替移动的托底板分别实现基材两面的承托，以完成基材翻面，无需人工二次翻面拆装，提高了加工效率。
天眼查资料显示，武汉麦韦光学科技有限公司，成立于2021年，位于武汉市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉麦韦光学科技有限公司参与招投标项目18次，财产线索方面有商标信息5条，专利信息22条，此外企业还拥有行政许可2个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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