北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“基于计算光刻模拟监测衰落效应”的专利，公开号CN122122520A，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，本文描述一种用于模拟光刻中的衰落效应的方法和系统。基于它们的衰落灵敏度选择图案或切割线以用于监测衰落效应。可以基于（a）衰落图像的空间导数或（b）图案的空间图像的二阶导数确定衰落灵敏度。获得表示光刻设备的扫描位置依赖性照射光瞳轮廓的衰落源，并且使用衰落源确定衰落图像。基于衰落图像的空间导数确定衰落灵敏度指标相对于晶片台调制的导数。使用衰落灵敏度指标的导数的特征向量表示图案。对特征向量进行分组，并且基于该分组选择一图案集合以用于监测衰落效应。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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