北京
国家知识产权局信息显示，京东方华灿光电（苏州）有限公司申请一项名为“发光二极管及其制作方法”的专利，公开号CN122094249A，申请日期为2026年1月。
专利摘要显示，本公开提供了一种发光二极管及其制作方法，属于发光器件领域。该方法包括：制作覆盖外延层的绝缘材料层；对绝缘材料层进行图形化处理，形成电流阻挡层以及绝缘材料掩膜层，绝缘材料掩膜层覆盖外延层的台阶区域，绝缘材料掩膜层露出外延层的隔离槽区域；制作覆盖外延层和电流阻挡层的透明导电材料层；在透明导电材料层上制作第一光刻胶掩膜层，第一光刻胶掩膜层露出台阶区域和隔离槽区域；在第一光刻胶掩膜层遮挡下，对透明导电材料层进行图形化处理，得到透明导电层；在第一光刻胶掩膜层遮挡下，对台阶区域的绝缘材料掩膜层和外延层以及隔离槽区域的外延层进行图形化处理，在外延层上形成台阶和隔离槽。
天眼查资料显示，京东方华灿光电（苏州）有限公司，成立于2012年，位于苏州市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本150000万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方华灿光电（苏州）有限公司参与招投标项目100次，专利信息625条，此外企业还拥有行政许可50个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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