北京
近日，ASML首席执行过富凯在比利时安特卫普的一场科技活动间隙接受采访时呼吁针对芯片制造设备对华出口制定更统一、稳定的规则。
他直言，ASML目前对华出售的深紫外（DUV）光刻机，采用的是 2015 年的技术，属于八代之前的芯片工艺；在此基础上再收紧限制，只会倒逼中国加快自研替代，遭到市场反噬！
富凯打比方称：“如果把你放到沙漠里，告诉你再也没有食物来源，你要多久才能自己开垦出菜园？这是存亡问题。”
美国推动更严管制，荷兰反对
美国国会 4 月提出《硬件技术多边协调法案》（MATCH 法案），要求荷兰、日本等盟友对齐美国出口管制，阻止中国获取先进芯片设备。
该法案在现有极紫外（EUV）光刻机全面禁售基础上，进一步将浸润式 DUV 光刻机等成熟制程设备纳入全面限制清单。路透社此前报道，法案由美国最大存储芯片厂商美光科技主导推动。
荷兰政府已明确反对该法案，认为其涉嫌域外管辖，干涉他国主权。
市场数据与中国应对
ASML今年 1 月预计，2026 年对华销售额占比将从去年的 33% 降至 20%。中国海关总署数据显示，2026 年一季度中国自荷兰进口光刻机同比下降 24.3%。
面对封锁，中国半导体产业正加速突围。今年 3 月全国两会期间，王阳元（中芯国际创始人之一）、赵晋荣（北方华创董事长）等 9 位行业领军人物在《科技导报》联名发文，呼吁 “十五五”（2026—2030 年）期间以举国之力打造 “中国版ASML”，突破技术封锁，攻克 EUV 光刻机等核心设备瓶颈。
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