北京
国家知识产权局信息显示，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司申请一项名为“光刻工艺模型的测试图案集的生成方法及其相关产品”的专利，公开号CN121995711A，申请日期为2026年3月。
专利摘要显示，本发明涉及一种光刻工艺模型的测试图案集的生成方法及其相关产品。其中光刻工艺模型的测试图案集的生成方法包括：获取工艺设计套件提供的标准单元设计版图。将标准单元设计版图中测试所需的图层分割成多个子区域。根据标准单元设计版图的拓扑结构分别在每个子区域内部定位关键点。根据关键点确定出测试图案，并加入测试图案集。本发明的光刻工艺模型的测试图案集的生成方法以关键点确定测试图案，筛选出具有光刻工艺表征价值的高相关性图案，摒弃了现有技术中无差别提取导致的大量空间重叠和无光刻风险的无效图案，实现了测试图案集冗余度的精准压缩，让图案集仅保留核心有效测试单元。
天眼查资料显示，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司，成立于2014年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本36401.6097万人民币。通过天眼查大数据分析，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目49次，财产线索方面有商标信息176条，专利信息425条，此外企业还拥有行政许可18个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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