北京
国家知识产权局信息显示，杭州大和江东新材料科技有限公司申请一项名为“一种氮化硅真空载盘曲面抛光装置及抛光方法”的专利，公开号CN121973076A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明公开了一种氮化硅真空载盘曲面抛光装置及抛光方法，旨在提供一种不仅能够提高氮化硅真空载盘曲面的抛光效率，降低劳动强度；而且能够提高氮化硅真空载盘曲面的抛光效果，有效降低返工率的一种氮化硅真空载盘曲面抛光装置及抛光方法。氮化硅真空载盘曲面抛光装置，包括：壳体，其上设有安装部；弹性压紧组件，包括沿竖直方向滑动设于壳体上的浮动部件及驱动浮动部件往下移动的弹性元件；抛光树脂块，可拆卸固定在浮动部件上朝下的底面上，抛光树脂块上朝向的侧面为抛光曲面，该抛光曲面与氮化硅真空载盘曲面相适配。
天眼查资料显示，杭州大和江东新材料科技有限公司，成立于2014年，位于杭州市，是一家以从事非金属矿物制品业为主的企业。企业注册资本6630万美元。通过天眼查大数据分析，杭州大和江东新材料科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目7次，财产线索方面有商标信息2条，专利信息118条，此外企业还拥有行政许可12个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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