北京
国家知识产权局信息显示，拉普拉斯新能源科技股份有限公司取得一项名为“内腔结构和反应炉”的专利，授权公告号CN224186262U，申请日期为2025年4月。
专利摘要显示，本申请涉及光伏和半导体技术领域，尤其涉及一种内腔结构和反应炉，内腔结构包括：内腔腔体，包括炉口端和与炉口端相对的尾端，炉口端的侧壁上设置有第一进气孔和第二进气孔；第一气路组件，包括：第一进气管，一端与第一进气孔连通，另一端被构造成连接气源以向内腔腔体内输送工艺气体；第二气路组件，包括：补气管道，设置在内腔腔体的内侧壁上，补气管道的一端与第二进气孔连通，另一端向朝向尾端方向延伸。通过在腔体的内部设置辅助气路，对腔体内非端部区域进行工艺气体的补充，保证腔体内工艺气体浓度的均匀性，能够提高硅片镀膜的均匀性。
天眼查资料显示，拉普拉斯新能源科技股份有限公司，成立于2016年，位于深圳市，是一家以从事电力、热力生产和供应业为主的企业。企业注册资本40532.6189万人民币。通过天眼查大数据分析，拉普拉斯新能源科技股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目60次，财产线索方面有商标信息130条，专利信息800条，此外企业还拥有行政许可61个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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