消息称苹果20周年纪念版iPhone将采用定制“微曲面”OLED屏幕

苹果据称正为2027年问世的20周年纪念版iPhone准备一块由三星定制生产的“微曲面”OLED屏幕，这块面板将在亮度与厚度上优于现有方案，同时也服务于苹果酝酿中的一次激进外观重构。

据最新供应链消息，苹果正与三星合作，为20周年纪念版iPhone开发一款定制OLED显示面板。与当前面板相比，这款新屏幕将更明亮、更轻薄，显示技术方向也被视为苹果下一代高端iPhone设计升级的重要组成部分。

报道指出，苹果正在考虑为这款纪念版机型带来一次大幅改版，目标是实现近乎完全无边框的全屏设计，并让显示区域沿机身四个边缘延展。 为实现这一构想，苹果据称希望三星提供一种“四边等深弯曲”面板方案，但不同于部分三星现有产品上弧度较大的“瀑布屏”，苹果更倾向于采用曲率非常浅的“微曲面”设计。

这种相对克制的圆润边缘方案，可能有助于提升整机握持时的柔和手感，也能让用户从屏幕边缘滑动时获得更自然的交互体验。 同时，较浅的曲面还有望减少屏幕边缘区域的内容畸变问题，从而兼顾视觉效果与实际可用性。

此外，爆料还提到，苹果希望三星为这款新机配备所谓的“无偏光片”显示面板，也就是移除目前多数OLED屏幕顶部偏光层的设计。 这一说法，与韩国媒体在2025年9月披露的信息基本一致：苹果计划引入三星的COE（Color Filter on Encapsulation）OLED技术，以进一步提升20周年纪念版iPhone屏幕的亮度表现，并压缩整体面板厚度。

按照相关说法，COE技术的核心思路，是取消OLED面板中的偏光膜，并将彩色滤光层直接设置在显示封装层之上。 这样做可以减少整个显示堆叠结构的厚度，同时提升透光效率，在增强亮度的同时降低功耗。

不过，取消偏光膜也会带来反射控制方面的新挑战。 报道提到，苹果已经在最新几代iPhone上加入新的抗反射涂层，而这一方案预计还会在后续iPhone产品中继续强化，以弥补无偏光片设计可能带来的反光问题。

另有消息称，苹果还计划在这块显示屏中引入一种“陨石坑形”光扩散层，用于进一步均衡不同区域的亮度，让整块屏幕在视觉上呈现更一致、更均匀的发光效果。

2027年将是iPhone发布20周年，苹果据称希望借此机会打造一款定位高端的全玻璃机型，并尽可能消除屏幕上的开孔与异形区域。 不过，在屏下组件方面，相关爆料目前仍存在分歧。

显示行业分析师罗斯·杨表示，到2027年时，苹果可能仍无法为iPhone准备好成熟的屏下Face ID方案。 但也有其他爆料者认为，苹果在这一时间点实现屏下Face ID并非没有可能。

如果苹果最终无法将所有前置组件完全隐藏至屏幕下方，前脸设计可能会退而求其次，采用屏下Face ID结合前置摄像头小型打孔的折中方案。 而最新传闻则显示，苹果目前仍在测试适用于2027年机型的屏下前摄技术，因此彻底“全屏化”的可能性依然存在。