国家知识产权局信息显示,ASML荷兰有限公司申请一项名为“极紫外光源中的目标提供控制装置和方法”的专利,公开号CN121865489A,申请日期为2020年2月。
专利摘要显示,本申请涉及一种调谐用于极紫外(EUV)光源的目标装置(300)的方法,目标装置包括目标发生器、传感器模块(130)和目标发生器控制器(325)。目标发生器包括被配置为容纳在等离子体状态下产生EUV光的目标材料(114)的容器(115)和与容器流体连通的喷嘴结构(117)。目标发生器在喷嘴结构中限定开口(119),从容器接收的目标材料通过该开口被释放。传感器模块被配置为:当目标材料沿着朝向目标空间(112)的轨迹行进时,检测与从开口释放的目标材料相关的方面,并且从检测到的方面产生一维信号。目标发生器控制器与传感器模块和目标发生器通信,并且被配置为基于对一维信号的分析来修改目标材料的特性。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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