北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“极紫外光源中的目标提供控制装置和方法”的专利，公开号CN121865489A，申请日期为2020年2月。
专利摘要显示，本申请涉及一种调谐用于极紫外（EUV）光源的目标装置（300）的方法，目标装置包括目标发生器、传感器模块（130）和目标发生器控制器（325）。目标发生器包括被配置为容纳在等离子体状态下产生EUV光的目标材料（114）的容器（115）和与容器流体连通的喷嘴结构（117）。目标发生器在喷嘴结构中限定开口（119），从容器接收的目标材料通过该开口被释放。传感器模块被配置为：当目标材料沿着朝向目标空间（112）的轨迹行进时，检测与从开口释放的目标材料相关的方面，并且从检测到的方面产生一维信号。目标发生器控制器与传感器模块和目标发生器通信，并且被配置为基于对一维信号的分析来修改目标材料的特性。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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