北京
国家知识产权局信息显示，无锡析谱半导体科技有限公司申请一项名为“一种基于单一离子源的多路残余气体分析协同检测系统”的专利，公开号CN121865882A，申请日期为2026年1月。
专利摘要显示，本发明公开了一种基于单一离子源的多路残余气体分析协同检测系统，主要包括离子源组件、四极杆质量分析器、检测系统、控制与数据融合模块；离子源组件包括1个灯丝模块和2个传输透镜，残余气体被灯丝模块电离成离子，离子通过传输透镜流入四极杆质量分析器并被筛选，特定质量的离子从四极杆质量分析器流入检测系统，被转化为数字信号传输给控制与数据融合模块；控制与数据融合模块将2个检测系统的数字信号融合成单一谱图。本发明通过一种组合式RGA设计，实现了多工艺场景的综合应用及联动；可以实现正负离子模式的同时扫描，获取的数据信息更加丰富；在扫描全谱信息时，可实现可分段扫描，扫描速度至少提升一倍。
天眼查资料显示，无锡析谱半导体科技有限公司，成立于2025年，位于无锡市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析，无锡析谱半导体科技有限公司专利信息2条。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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