北京
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国家知识产权局信息显示，京东方华灿光电（浙江）有限公司申请一项名为“刻蚀机台的线圈结构及刻蚀机台”的专利，公开号CN121862671A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本公开提供了一种刻蚀机台的线圈结构及刻蚀机台，所述线圈结构包括：第一线圈单元、第二线圈单元、至少一个第一可变电阻和至少一个第二可变电阻；所述第一线圈单元同心布置在所述第二线圈单元内，且所述第一线圈单元和所述第二线圈单元相互绝缘；所述第一线圈单元与所述至少一个第一可变电阻电连接，所述第二线圈单元与所述至少一个第二可变电阻电连接。
天眼查资料显示，京东方华灿光电（浙江）有限公司，成立于2014年，位于金华市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本380450万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方华灿光电（浙江）有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目41次，专利信息1035条，此外企业还拥有行政许可42个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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