北京
国家知识产权局信息显示，浙江大华技术股份有限公司申请一项名为“一种成像装置”的专利，公开号CN121832184A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本申请公开了一种成像装置，包括镜头、反光单元和光电转换单元，入射光经镜头传播至光电转换单元，反光单元位于入射光的传播路径上，其中，光电转换单元包括R滤光单元，沿入射光的传播方向，反光单元与R滤光单元相对设置。R滤光单元允许透过的光的波段为M nm~N nm，与R滤光单元相对设置的反光单元用于反射的光的波长的峰值为F nm，且M、F和N满足：M＜F＜N。采用本申请提供的成像装置，当M~N波段的入射光经过反光单元时，反光单元可将波长F附近的光过滤掉大部分，以用于降低M~N波段的入射光的光强度，从而有效的降低画面中的红灯或绿灯发生过曝的风险性，提升成像质量。
天眼查资料显示，浙江大华技术股份有限公司，成立于2001年，位于杭州市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本328675.5574万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江大华技术股份有限公司共对外投资了71家企业，参与招投标项目9519次，财产线索方面有商标信息316条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可407个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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