北京
国家知识产权局信息显示，合肥光微光电科技有限公司申请一项名为“光掩膜基板抛光的厚度在线监测与亚表面应力调控方法”的专利，公开号CN121821238A，申请日期为2026年2月。
专利摘要显示，本发明公开了光掩膜基板抛光的厚度在线监测与亚表面应力调控方法，包括以下步骤：对光掩膜基板进行预处理，确定基板初始材质参数、初始厚度基准值及目标抛光精度要求，初始化抛光设备基准参数与监测调控系统工作阈值；部署多维度在线监测单元，同步采集基板抛光区域的厚度实时数据与亚表面应力分布数据，建立双数据通道的同步传输与时间戳对齐机制。本发明定向应力释放的精准调控与3个采样周期的持续时长设置，缩短应力释放时间，为后续质量追溯与工艺优化提供数据支撑，整体工艺实现厚度与应力的同步达标，无需二次返工，光掩膜基板的光刻适配性与长期使用可靠性显著增强，完全满足先进半导体制程的严苛要求。
天眼查资料显示，合肥光微光电科技有限公司，成立于2020年，位于合肥市，是一家以从事非金属矿物制品业为主的企业。企业注册资本30000万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥光微光电科技有限公司参与招投标项目3次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息30条，此外企业还拥有行政许可6个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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