北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“掩膜版调节喷嘴”的专利，公开号CN121794626A，申请日期为2024年8月。
专利摘要显示，一种掩模版调节喷嘴，被配置为向掩模版处理模块的子容积供应调节流体，包括：入口端，被配置为从调节流体源接收调节流体；出口端，被配置为将调节流体分配到掩模版处理模块的子容积中，其中出口端被配置为递送两个分离的流体流，即跨掩模版处理模块中的掩模版的顶表面的第一流体流和跨掩模版的底表面的第二流体流；以及过渡区段，包括被设置在入口端与出口端之间的叶片，该过渡区段被配置为改变调节流体跨出口端的宽度的流动，使得跨掩模版的表面的温度梯度减小。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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