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据最新报道，苹果公司 20 周年纪念版 iPhone 将采用全新的曲面设计，边框更窄。
一位名为“@phonefuturist”的苹果用户昨天和今天分别发布了两条帖子，分享了这一消息。第一条帖子指出，这款被称为“周年纪念版”iPhone 的设备将采用 1.1 毫米的超窄边框，并拥有流畅的曲面设计。帖子中包含一张模拟图，展示了凸面玻璃屏幕边缘向下弯曲，与类似 iPhone X 的纤薄抛光边框完美衔接。作为对比，iPhone 17 Pro 的边框厚度约为 1.44 毫米。
在今天的后续帖子中，该账号将这款设备称为iPhone“XX”（即 iPhone 20），并声称苹果一直在评估三星的面板下摄像头（UPC）技术，作为传闻中更常见的屏下摄像头（UDC）方案的替代方案，但最终发现 UPC 的图像质量不足。因此，该帖子声称，iPhone 20 可能采用比现有 iPhone 17 Pro 更小的灵动岛，或者采用挖孔屏设计，并搭配三星的“Polar ID”人脸识别系统。
据报道，苹果仍计划为 iPhone 20 采用全面屏设计，但就在今年 1 月，有报道称，由于在不降低拍照质量的情况下将前置摄像头隐藏在屏幕下方的技术难度，全面屏的计划可能面临不确定性。
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