北京
国家知识产权局信息显示，沐曦集成电路（南京）有限公司申请一项名为“一种综合设计约束文件的生成方法、电子设备及存储介质”的专利，公开号CN121766227A，申请日期为2026年3月。
专利摘要显示，本发明涉及芯片设计技术领域，特别是涉及一种综合设计约束文件的生成方法、电子设备及存储介质，其通过获取当前区块的名称；基于所述当前区块的名称查询预置的目标区块列表文件；若所述当前区块的名称存在于所述目标区块列表文件中，则基于所述当前区块的名称查询预置的目标区块映射文件，以获取所述当前区块对应的原子单元列表；控制生成脚本根据所述当前区块对应的原子单元列表，生成各原子单元的约束子文件；基于当前区块中各原子单元的约束子文件生成当前区块的综合设计约束文件，达到了在无需人工干预的前提下，高效率的生成当前区块的综合设计约束文件目的，从根本上解决了传统方法中效率低、易出错的问题。
天眼查资料显示，沐曦集成电路（南京）有限公司，成立于2020年，位于南京市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本20000万人民币。通过天眼查大数据分析，沐曦集成电路（南京）有限公司专利信息63条，此外企业还拥有行政许可1个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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