北京
国家知识产权局信息显示，EV 集团 E·索尔纳有限责任公司申请一项名为“用于将第一衬底与第二衬底键合的方法、用于键合的设备和由第一衬底和第二衬底构成的装置”的专利，公开号CN121730032A，申请日期为2023年8月。
专利摘要显示，一种用于将第一衬底（2u）与第二衬底（2o）键合的方法，其中第一衬底（2u）具有初级部段，并且第二衬底（2o）具有次级部段，其中在将第一衬底（2u）与第二衬底（2o）键合时，在第一子部段与第二子部段之间形成沿着键合方向前进的键合波（10），第一衬底（2u）和第二衬底（2o）在所述第一子部段中连接，第一衬底（2u）和第二衬底（2o）还应在所述第二子部段中连接，其中第二衬底（2o）在第二子部段中的子区域相对于第二衬底（2o）在第一子部段中的子区域在垂直于主延伸平面（HSE）伸展的方向上是高度错开的，并且其中为了维持初级部段与次级部段之间的间距，在键合期间将第二衬底（2o）在第二子部段中在与键合波背离的端部部段中保持，尤其当第二衬底（2o）在端部部段与键合波之间的区域下落时如此。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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