北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“基于衍射图案来优化源、掩模、和波前以减少M3D衰落的方法和系统”的专利，公开号CN121729642A，申请日期为2024年7月。
专利摘要显示，描述了一种用于减少光刻过程中的掩模三维（M3D）引发的对比度损失的方法和系统。基于目标图案的零阶衍射和一阶衍射来确定所述目标图案的衍射图案。将所述衍射图案离散化且分割成零阶衍射分区和一阶衍射分区以产生经分割的分区。基于所述零阶衍射与所述一阶衍射之间的期望的相移和所述经分割的分区来确定波前目标。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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