微软投资“光刻机”初创公司

公众号记得加星标⭐️，第一时间看推送不会错过。

总部位于挪威、由微软支持的芯片制造设备初创公司Lace周一表示，该公司已筹集4000万美元资金，用于进一步开发一项可能在半导体设计和制造方面取得重大进展的技术。

为了制造尖端芯片，台积电和英特尔等制造商采用了一种称为光刻的工艺，利用光来绘制复杂的电路，这些电路构成了先进人工智能芯片的基础。

制造商们竞相缩小芯片组件的尺寸，并在有限的硅片面积上塞入更多功能，以提高计算能力，因此他们使用荷兰公司 ASML（占据市场主导地位）生产的基于光刻技术的系统。

随着新一轮创业公司的涌现，该领域引起了投资者和政府的重新关注，其中一些创业公司的目标是与这家荷兰公司竞争。

Lace公司开发了一种新方法。该公司工程师没有使用光刻技术，而是利用氦原子束进行光刻。Lace首席执行官博迪尔·霍尔斯特在接受路透社采访时表示，凭借这项技术，这家挪威公司将能够制造出比目前技术小10倍的芯片。

霍尔斯特说：“我们的技术有可能扩展发展路线图，并成为实现原本不可能的事情的推动力。”

氦原子束的主要优势在于，它可以制造出晶体管等现代芯片的基本组成部分，其尺寸可以缩小一个数量级，达到“几乎难以想象”的程度。Imec（芯片行业的研发创新中心）的光刻技术科学总监约翰·彼得森表示。

Lace公司用于制造芯片的光束宽度大约相当于一个氢原子，即0.1纳米。ASML公司的光刻工具使用的光束宽度约为13.5纳米；一根头发的宽度约为10万纳米。

更小的晶体管和其他特性将使芯片制造商能够大幅提升先进人工智能处理器的性能，远超目前的水平。霍尔斯特表示，Lace 的技术将使芯片制造商能够以“最终的原子级分辨率”印刷晶圆。

这家总部位于卑尔根的公司完成了 A 轮融资，由 Atomico 领投，微软的风险投资部门 M12、Linse Capital、西班牙技术转型协会和 Nysnø 也参与了投资。

Lace公司拒绝就其整体估值置评，该公司已开发出原型系统，并计划在2029年左右在试点芯片制造厂（或称晶圆厂）中配备测试工具。该公司在2月份的科学光刻峰会上受邀发表了一篇研究论文，介绍了其研究成果。

Lace利用原子层超越了极紫外光刻技术

Lace Lithography AS（挪威卑尔根）正在开发一种光刻技术，该技术利用在表面燃烧的原子来定义特征，其分辨率超过了使用极紫外光刻技术所能达到的分辨率。

Lace Litho 所称的 BEUV 技术，理论上可以实现更精细的特征，从而支持晶体管的持续小型化并延长摩尔定律。

该公司由卑尔根大学首席执行官博迪尔·霍尔斯特教授和首席技术官阿德里亚·萨尔瓦多·帕劳于 2023 年 7 月共同创立。阿德里亚·萨尔瓦多·帕劳在卑尔根大学获得博士学位，但现在在西班牙巴塞罗那运营。

传统的极紫外光刻系统使用波长为13.5纳米的光，通过一系列反射镜和掩模在晶圆上形成图案。原子光刻技术无需掩模即可直接进行图案化，其分辨率比波长受限的极紫外光刻系统所能达到的分辨率还要高。

该公司在其网站上宣称：“通过使用原子而不是光，我们以更具成本效益的方式，并以显著更低的能耗，为芯片制造商提供比现有技术领先 15 年的能力。”

萨尔瓦多·帕劳和霍尔斯特教授共同撰写了一篇发表在《物理评论A》上的论文，题为《利用中性氦原子进行真实尺寸表面映射》。该论文详细介绍了立体氦显微镜的实现和操作。

FabouLACE 是一个由欧盟资助的项目，旨在开发基于色散力掩模的氦原子光刻技术，项目预算为 250 万欧元，由欧洲创新理事会提供。该项目于 2023 年 12 月 1 日启动，至 2026 年 11 月 30 日结束。

FabouLACE利用亚稳态原子和基于色散力的掩模，可实现2纳米的特征尺寸。据欧盟委员会称，Lace Lithography的目标是在2031年前将该技术推向市场。与此同时，IMEC研究所将对该技术的性能进行监测和验证。NanoLACE是此前一项欧盟研究项目，已于2024年12月31日结束。该项目于2019年启动，预算为365万欧元，最终获得336万欧元的资助。

Lace Lithography 于 2023 年 7 月筹集了约 45 万欧元的种子轮融资，投资方包括 Runa Capital、Vsquared Ventures、Future Ventures、欧洲创新理事会、挪威创新署和挪威研究理事会。

（来源：路透社）

*免责声明：本文由作者原创。文章内容系作者个人观点，半导体行业观察转载仅为了传达一种不同的观点，不代表半导体行业观察对该观点赞同或支持，如果有任何异议，欢迎联系半导体行业观察。

今天是《半导体行业观察》为您分享的第4355内容，欢迎关注。

加星标⭐️第一时间看推送

求推荐