国际权威背书！HiPIMS入选先进真空工艺重点技术

近日，玻璃与塑料涂层领域的国际权威盛会——2026年国际玻璃与塑料涂层大会（ICCG 2026）正式发布了核心议题。在公布的“技术与应用”板块中，HiPIMS（高功率脉冲磁控溅射）被官方明确列为「先进真空工艺 (Advanced Vacuum Processes)」领域的首要重点技术！

这一国际风向标再次印证了：HiPIMS 已经从一项前沿的实验室技术，正式跃升为驱动全球大面积镀膜、先进光学、新能源转换等高端制造领域的核心引擎。

为什么国际大会纷纷聚焦 HiPIMS？

本届 ICCG 大会的主题是“聚焦效率：释放大面积涂层的潜力”。在要求极致膜层质量与生产效率的今天，传统磁控溅射（DC/MF）的离化率瓶颈日益凸显。而 HiPIMS 技术凭借其革命性的突破，完美契合了未来制造的需求：

✅超高离化率（>90%）：在极短脉冲内施加超高功率，靶材原子高度离化。

✅无死角绕镀性：极其适合复杂三维工件及大面积均匀成膜。

✅极致的膜层致密性：带来极高的硬度、极强的结合力与耐磨性。

✅光学级表面质量：无大颗粒缺陷，成膜色泽异常优异。

当全球高端制造业都在抢占 HiPIMS 的技术高地时，国内的镀膜企业如何才能配备世界级的“引擎”？

⚡ 拥抱国际趋势：JX-HiPIMS-Max 旗舰电源

精新电源自主研发的 JX-HiPIMS-Max 高功率脉冲磁控溅射电源，正是为满足全球最高标准而生的高端装备。不仅性能可直接对标德国霍廷格 (TRUMPF Hüttinger)，更在多项核心指标上实现了超越。

核心性能，硬核护航：

4MW 超高峰值功率
强大的瞬时能量输出，彻底打破传统沉积速率瓶颈，让靶材瞬间高度等离子体化。

完美方波输出
确保每一次脉冲的工艺极度稳定，为您带来无与伦比的成膜重复性。

️双重极致保护
内置点火电压与反向电压保护机制，在极限高功率下依然能确保等离子体稳定运行，彻底杜绝异常放电对靶材和工件的损伤。

广阔的应用前景

无论您是从事 ICCG 大会重点关注的“大面积光学”和“新能源转换”，还是传统的高端消费品，JX-HiPIMS-Max都能提供完美支持：

高端3C电子：如 iPhone 玫瑰金外壳，色泽饱满持久。

⌚奢侈品钟表：劳力士、欧米茄级表壳工艺，极致耐磨。

硬质功能膜：DLC类金刚石膜层、高端刀具模具强化。

精密光学器件：无缺陷增透膜、反射膜。

精新电源：大科学工程的底气

精新电源拥有十余年国家大科学工程（正负电子对撞机、重离子加速器等）粒子加速器电源的研发经验。我们将大科学工程中沉淀的极致“稳定性”与“高精度”降维应用到工业 PVD 领域，目前已为国内十多家真空镀膜头部客户提供了极具竞争力的 HiPIMS 解决方案。

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