北京
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国家知识产权局信息显示，PSK控股公司申请一项名为“基板处理装置”的专利，公开号CN121621049A，申请日期为2024年7月。
专利摘要显示，本发明公开了一种基板处理装置，所述基板处理装置可以通过防止气体渗透到夹紧环与引导环之间的缝隙来防止因局部等离子体所导致的基板和腔体内部的部件的损伤，并且可以使基板的处理变得均匀。根据本发明的实施例的基板处理装置，可以包括：支撑部，构成为支撑基板；夹紧环，通过对所述基板的外周区域施加载荷来防止所述基板在所述基板的处理工艺中弯曲变形；以及引导环，设置于所述支撑部的周缘部，以引导所述基板和所述夹紧环。所述引导环包括：引导环本体，具有与所述夹紧环对应的环形状；以及气体渗透防止凸起部，从所述引导环本体的外周缘部向上部凸出形成，以在所述基板发生翘曲时防止气体渗透到所述引导环与所述夹紧环之间的缝隙。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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