北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“超导线圈组件和致动器系统”的专利，公开号CN121620732A，申请日期为2024年7月。
专利摘要显示，一种光刻设备，包括：图案形成装置；第一定位器，所述第一定位器用于定位图案形成装置支撑件；衬底支撑件；第二定位器，第二定位器用于定位衬底支撑件；以及投影系统，投影系统被配置成将辐射束从图案形成装置投影至衬底上，其中，图案形成装置支撑件、第一定位器、衬底支撑件和/或第二定位器在使用期间具有被配置成产生磁场的多个超导线圈，其中，所述多个超导线圈被分组成能够分离且离散的多个模块，所述多个模块在被组装时形成组件，每个模块包括所述多个线圈的一个或更多个线圈的子集且包括用于向一个或更多个线圈的所述子集提供电力的电气接口和用于为一个或更多个线圈的所述子集的超导性提供冷却的冷却接口。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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