北京
国家知识产权局信息显示，深圳市美思先端电子有限公司申请一项名为“一种红外吸收复合膜层、红外探测器及红外光源”的专利，公开号CN121578425A，申请日期为2026年1月。
专利摘要显示，本发明公开了一种红外吸收复合膜层、红外探测器及红外光源，复合膜层包括依次层叠设置的钝化层、第二介质层、第二金属层、第一介质层及第一金属层；第一金属层的厚度为50~300nm；第一介质层的厚度为200~1200nm，第二金属层的厚度为5~100nm，第二金属层的材质为镍铬合金或镍；且两个金属层的材质不同；第二介质层的厚度为100~1000nm；两个介质层组合为对称性优化的谐振腔；钝化层的厚度为100~500nm。上述复合膜层使用镍铬合金或镍作为关键损耗层，结合双介质层及第一金属层，利用第二金属层优异的抗氧化性和热稳定性，解决了目前辐射材料层的氧化退化和稳定性问题，同时兼容标准工艺且具有高吸收率。
天眼查资料显示，深圳市美思先端电子有限公司，成立于2015年，位于深圳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1308.014354万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市美思先端电子有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目9次，财产线索方面有商标信息41条，专利信息138条，此外企业还拥有行政许可28个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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