国家知识产权局信息显示,北京华碳元芯电子科技有限责任公司申请一项名为“一种晶圆级半导体单壁碳纳米管阵列薄膜制备方法及装置”的专利,公开号CN121553931A,申请日期为2025年11月。
专利摘要显示,本发明涉及晶圆级半导体单壁碳纳米管阵列薄膜的制备方法,包括以下步骤:将首先碳纳米管粉体加入含有偶氮苯结构的共轭聚合物的第一有机溶剂中,经过超声、离心得到上清液,取所述上清液进行过滤重分散至第二有机溶剂,获得半导体型碳纳米管溶液;然后提供一基底并进行基底表面官能团均一化处理,将所述基底置于剪切压力机机台上,通过力反馈驱动泵注入所述半导体型碳纳米管溶液进行剪切沉积,在所述基底上沉积碳纳米管阵列薄膜;对上述得到的基底置于降解液中浸泡降解和清洗,获得半导体单壁碳纳米管阵列薄膜。本发明解决了现有溶液法制备碳纳米管阵列薄膜无法实现晶圆级大面积均匀制备的问题,同时缩短阵列碳纳米管薄膜制备时间。
天眼查资料显示,北京华碳元芯电子科技有限责任公司,成立于2015年,位于北京市,是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析,北京华碳元芯电子科技有限责任公司共对外投资了2家企业,参与招投标项目24次,财产线索方面有商标信息2条,专利信息111条,此外企业还拥有行政许可3个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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