北京
国家知识产权局信息显示，魅杰半导体设备（无锡）有限公司申请一项名为“一种应用于晶圆上制作灰阶图形的制作方法”的专利，公开号CN121559818A，申请日期为2026年1月。
专利摘要显示，本发明涉及一种应用于晶圆上制作灰阶图形的制作方法，该方法在晶圆上绘制图形时通过设计不同宽度或尺寸的黑白相间的线条或方框作为基本图形单元，并按照等间距的方式进行排布，使得在光学显微镜放大观察时，能够呈现出预期的不同灰度。本发明提供了一种应用于晶圆上制作灰阶图形的制作方法，通过在晶圆上绘制图形时通过设计不同宽度或尺寸的黑白相间的线条或方框作为基本图形单元，并按照等间距的方式进行排布，使得在光学显微镜放大观察时，能够呈现出预期的不同灰度，通过直接优化图形结构参数实现灰度的稳定调控，提高灰度的可预测性和可控性，减少工艺复杂性和检测误差风险。
天眼查资料显示，魅杰半导体设备（无锡）有限公司，成立于2015年，位于无锡市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本942.9891万人民币。通过天眼查大数据分析，魅杰半导体设备（无锡）有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目22次，财产线索方面有商标信息12条，专利信息127条，此外企业还拥有行政许可1个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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