大家都知道,在芯片制造过程中,芯片设备是至关重要的,且目前美国对中国芯片产业进行打压,主要也是针对设备。
比如EUV光刻机,高端的浸润式DUV光刻机,美国都不准ASML卖给中国,还有涉及到14nm及以下的其它设备,也同样不允许国外的企业卖给中国。
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那么问题就来了,这么多芯片设备,中国最强的是哪一种,最弱的又是哪一种呢?
从目前的情况来看,最强的应该是刻蚀机了,因为它至少达到了3nm的水平。
国内最强的刻蚀机厂商,应该是中微公司,在全球芯片设备市场,中微公司目前排在第13位,而在技术方面,中微公司的水平至少是达到了3nm,甚至有可能是达到了2nm。
早在几年前,中微公司就打入了台积电的供应链,说明中微公司的刻蚀机,是全球领先且可靠的,否则台积电不会采用它的。
更重要的是,中微公司目前在零部件上,实现了100%的国产化,根本就不用担心国外不供应零部件,完全实现了自主可控。
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而最弱的则是光刻机了,国内知名的光刻机公司是上海微电子,之前公布的光刻机技术还只达到90nm,还属于ArF光刻机的范畴,没有达到ArFi,也就是浸润式DUV光刻机的水平。
如果对照ASML的话,至少落后10年以上,所以光刻机,应该是技术相当最弱的。
这也是为何美国要卡住我们光刻机的原因,因为自己的实在落后太多,脖子一卡一个准,完全不可能实现国产替代。
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我们知道,芯片制造设备,其实是遵循木桶理论的,即哪一样的技术最弱,那么哪一样就决定了我们的最强水平。
所以如果我们不能采用进口设备,只能使用国产设备的话,那么决定国产芯片最高工艺的,并不是刻蚀机,而是光刻机。
所以国产芯片设备,特别是光刻机,还是非常长的一段路要走,否则很难摆脱被卡脖子的命运,你觉得呢?
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