北京
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国家知识产权局信息显示，西默有限公司申请一项名为“用于校准激光束光谱线宽的测量的系统和方法”的专利，公开号CN121488370A，申请日期为2024年6月。
专利摘要显示，一种用于执行测量模块的校准的系统和方法，所述测量模块被提供以测量辐射源的激光束的光谱特性（例如光谱），其中所述系统包括参考辐射源，并且所述方法包括使用所述参考辐射源来校准所述测量模块。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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