北京
国家知识产权局信息显示，华芯程（杭州）科技有限公司申请一项名为“基于曲线几何特征分析的光学邻近校正掩模验证方法、系统、程序产品及终端”的专利，公开号CN121477541A，申请日期为2026年1月。
专利摘要显示，本申请提供一种基于曲线几何特征分析的光学邻近校正掩模验证方法、系统、程序产品及终端，通过对光学邻近效应校正后的掩模图形数据进行预处理并转换为连续可导的参数化曲线，来量化分析曲线的几何特征，并通过采用基于曲率变化的自适应采样策略，计算几何特征值，并通过几何特征值针对性的输出质量评估报告。本发明通过掩模图形数据的几何特征的量化分析与全方位质量验证，既解决了传统掩模验证中缺陷识别不全面的问题，又平衡了掩模验证精度与计算效率，为光学邻近效应校正提供了明确且可落地的优化方向，帮助设计人员快速改进掩模图形质量，显著缩短迭代周期、降低研发成本。
天眼查资料显示，华芯程（杭州）科技有限公司，成立于2021年，位于杭州市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本1010.688237万人民币。通过天眼查大数据分析，华芯程（杭州）科技有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目2次，财产线索方面有商标信息63条，专利信息157条，此外企业还拥有行政许可3个。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
