荷兰宣布光刻机新规！全球芯片业震动，中国供应链自给开加速

荷兰外交部的一纸公告震动全球半导体行业。

10月31日，路透社报道指出，荷兰针对光刻机的技术封锁再度收紧。

根据其2025年生效的新规，ASML向中国出口关键DUV设备已被明确禁止，管制范围也同步扩大，敏感领域的新增合作被全面叫停。

对此，荷媒《电讯报》却无辜表示：我们同样面临压力。

这话听着就来气，纯属揣着明白装糊涂，谁不知道你们荷兰的压力，清一色来自美国，美国这些年一直盯着中国芯片产业，处心积虑想把我们的发展路堵死。

光刻机是造芯片的关键设备，它的作用就是用激光在硅片上刻出精细的电路，精度越高，能造出的芯片就越先进，手机、汽车、智能家居里，到处都用得上这种芯片。

这次荷兰出台的2025年新规，已经严到了骨子里，之前荷兰还只是限制7纳米及以下制程的光刻机出口，现在直接把门槛提到了14纳米。

ASML旗下1970i、1980i这两款主力DUV机型，也被全面纳入了限制名单，不光是禁止出口，相关设备的审批周期也被拉长到90天，敏感领域的任何新增合作，全被一刀切叫停。

荷兰政府嘴上喊着“出于国家安全考虑”，这话骗骗外行还行，懂行的人都清楚内里的猫腻。

美国经济学家Jeffrey Sachs在欧洲议会演讲时，直接戳破了这层窗户纸，他公开表示，ASML看似是荷兰企业，实际上全程由美国做主。

ASML生产的每一台光刻机，有一半零件都来自美国供应商，美国只要一施压，卡住零件供应，ASML就没法正常生产，荷兰政府根本没有反抗的余地。

荷媒《电讯报》说自己面临压力，这话没假，但这份压力，全是荷兰自己选的，他们明明知道，中国市场对ASML、对荷兰半导体产业有多重要，却还是硬着头皮跟着美国走。

有数据摆在那，2024年ASML从中国大陆赚了101.95亿欧元，这笔收入折合成人民币大概794.42亿元，占了它全年总营收的36.1%。

中国不只是ASML最大的DUV设备市场，更是支撑它营收的核心力量。

新规一出来，最先受伤的就是ASML自己，分析师已经明确预测，2025年ASML的营收会直接缩水12%。

就连它的股价，最近也跟着坐起了过山车，2026年2月前几天，股价连续下跌，2月4号收盘价只有1339.13美元，直到9号才勉强回升到1429.49美元。

荷兰本土的半导体行业，日子也不好过，荷兰半导体行业一共有12万从业人员，其中约两成岗位都和对华贸易直接相关。

长期断供中国，这些岗位迟早会面临裁员风险，荷兰自己的就业市场也会被波及。

ASML也不是没做应对，他们推出了一款“合规版”NX2000机型，试图通过轻微的技术调整，帮客户维持7纳米芯片的生产。

同时他们还在苏州强化了服务枢纽，拿出5亿美元储备备件，把设备维修周期压缩到15天，想化解审批延迟带来的冲击。

可这些小动作，根本改变不了大局，毕竟中国市场的体量摆在这，少了我们的订单，ASML的营收缺口根本补不上。

很多人会问，荷兰这么一搞，中国芯片产业会不会彻底被卡脖子，答案很明确，不会，反而会倒逼我们加快自给自足的步伐。

其实我们早有准备，一位荷兰专家就曾指出，中国此前已经大量采购储备了ASML的光刻机，总数差不多有1000台。

我们囤这些设备，不只是为了满足当下的生产需求，更主要是为了应对美国发起的科技持久战，提前储备好“战略物资”。

这些储备的设备，足够我们支撑一段时间，为国内光刻机企业的研发争取宝贵时间。

中国的反制措施也很直接，直击ASML的软肋。

我们新出台的稀土管制规定明确，只要光刻机等货物中含有0.1%的中国来源稀土，无论它的产地和运输路径如何，都必须得到中国同意才能使用。

大家可能不知道，ASML每台光刻机都要消耗超过10公斤的稀土磁体，这些磁体占了设备电机成本的30%。

而且镜头抛光必须用到的高纯度铈基材料，也主要依赖中国供应，全球90%的稀土精炼产能都在中国手中，荷兰的稀土库存，大概只够支撑8周的生产。

这就意味着，只要我们收紧稀土出口，ASML很快就会面临“无米下锅”的困境。

除了反制，我们自身的技术突破也在不断加速，上海微电子作为国内光刻机领域的龙头企业，目前28纳米光刻机的良率已经达到90%，距离量产越来越近。

在近期举办的湾区半导体展上，新凯来公司展出了三十余款半导体设备，覆盖了刻蚀、薄膜沉积、量检测等全流程。

万里眼技术公司也发布了90GHz超高速实时示波器，这款设备的性能比旧产品提升了500%，直接打破了西方的长期垄断。

芯片制造环节，中芯国际的进展也很亮眼，中芯国际已经实现了28纳米制程的稳定量产，这款制程被称为“长青制程”，能满足汽车电子、家电MCU等海量场景的需求。

更值得一提的是，在没有EUV光刻机的情况下，中芯国际通过DUV多重曝光技术，攻克了高端制程的难关。

他们研发的N+1工艺，等效于台积电的7纳米工艺，性能差距只有15%；N+2工艺则等效于5纳米工艺，良率已经提升到60%-70%，接近台积电早期的7纳米水平。

而且这种工艺的设备投资，只有EUV光刻机的五分之一，成本优势非常明显。

上游的核心零部件和软件领域，我们也在不断补齐短板,华大九天通过并购整合，打造出了自己的EDA工具和半导体IP，打破了国外企业在EDA领域的垄断。

北方华创的离子注入机、中微公司的刻蚀机，已经成功应用于5纳米产线，精度能达到头发丝的五百万分之一。

回顾历史就能发现，中国从来不怕技术封锁，上世纪60年代的技术封锁，催生了我们的“两弹一星”；2010年代的导航断供，加速了北斗系统的组网。

每一次封锁，都能让我们爆发出更强的研发力量，ASML前CEO温宁克曾经警告过，基于意识形态的限制，只会逼出竞争对手。

现在看来，他的话完全应验了，美国和荷兰以为，靠技术封锁就能拦住中国芯片产业的发展，这种想法太天真。

他们忘了，中国最擅长的就是在逆境中成长，别人越是不让我们做，我们就越要做好。

目前中国集成电路的进口依赖度正在持续下降，设备采购来源也在加速向新加坡、马来西亚等地多元化拓展。

荷兰这次的新规，看似是给我们制造了麻烦，实际上是帮我们彻底断了“依赖国外设备”的念想，倒逼我们加快自主研发的速度。

全球芯片业的震动还在持续，供应链重构已经成为必然趋势，美国想靠封锁打造“小院高墙”，最终只会孤立自己。

荷兰盲目跟随美国的政策，牺牲自己的经济利益，最终也会付出惨痛的代价，而中国，正在这场科技博弈中，一步步筑牢自己的供应链防线，加速实现芯片产业的自给自足。

相信用不了多久，我们就能造出完全属于自己的高端光刻机，彻底打破西方的技术垄断。

到那时候，荷兰和美国再想靠光刻机卡我们的脖子，恐怕就没机会了。

毕竟靠打压别人永远赢不了，只有自身强大，才能在全球竞争中立于不败之地。