北京
国家知识产权局信息显示，武汉理工光科股份有限公司申请一项名为“一种多通道语音信号降噪方法及装置”的专利，公开号CN121456289A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本发明涉及一种多通道语音信号降噪方法及装置，该方法包括获取分布式光纤声学传感系统采集的多通道振动信号和纯噪声信号；对多通道振动信号进行分帧处理，得到每个通道每帧的频域复频谱；根据纯噪声信号确定谱熵和低频信噪比，根据谱熵和低频信噪比对过减系数进行自适应调节，得到目标过减系数；根据目标过减系数对第一幅度谱进行谱减运算，基于每个通道的时间延迟对第一相位谱进行相位校正，得到每帧的单通道复频谱，从而通过自适应调节过减系数并结合多通道相位校正，有效抑制非平稳噪声干扰，同时保持信号相位一致性；对单通道复频谱进行相位优化和叠加还原，得到降噪重构后的时域信号，从而通过相位优化和叠加还原提升振动信号特征保真度。
天眼查资料显示，武汉理工光科股份有限公司，成立于2000年，位于武汉市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本12094.6746万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉理工光科股份有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目1044次，财产线索方面有商标信息5条，专利信息326条，此外企业还拥有行政许可28个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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