北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“时间相关缺陷检查装置”的专利，公开号CN121460464A，申请日期为2019年8月。
专利摘要显示，公开了一种改进的带电粒子束检查装置，更具体公开了一种用于检测薄型器件结构的缺陷的粒子束检查装置。束检查装置包括：带电粒子束源，其用于在时间序列上将带电粒子引导到晶片的受检查的位置处；以及控制器，该控制器被配置为在时间序列上的不同时间对晶片的区域的多个图像（510‑538）进行采样。多个图像被比较，以检测电压对比差异或电压对比改变（560‑564），以标识薄型器件结构缺陷（562）。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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