北京
国家知识产权局信息显示，杭州众硅电子科技有限公司申请一项名为“一种用于清洗晶圆的排列式兆声清洗装置”的专利，公开号CN121463743A，申请日期为2021年10月。
专利摘要显示，本发明公开了一种用于清洗晶圆的排列式兆声清洗装置，包括：清洗槽；第一主动轴和第二主动轴，平行设于清洗槽内，且在驱动单元的驱动下可绕其自身中心线周向旋转，其长度为60‑350mm；第一主动轴上沿长度方向设有三个第一卡槽，第二主动轴上沿长度方向设有三个第二卡槽，该第二卡槽与第一卡槽对应设置；三片晶圆分别通过第一卡槽和第二卡槽的配合实现放置，且第一主动轴和第二主动轴被构造为分别位于晶圆的中轴线的两侧；第一主动轴和第二主动轴沿相同方向转动，可摩擦驱动多片晶圆同时转动，以实现清洗。本发明清洗槽中可以放置多片晶圆进行同时清洗，在确保同等清洗效率的前提下，最大程度减小了清洗槽的占地面积，确保晶圆清洗的效果一致性。
天眼查资料显示，杭州众硅电子科技有限公司，成立于2018年，位于杭州市，是一家以从事文教、工美、体育和娱乐用品制造业为主的企业。企业注册资本11562.0108万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州众硅电子科技有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目23次，财产线索方面有商标信息63条，专利信息178条，此外企业还拥有行政许可5个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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