北京
国家知识产权局信息显示，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司申请一项名为“生成顶点辅助图形的方法和计算机程序产品”的专利，公开号CN121454853A，申请日期为2026年1月。
专利摘要显示，本申请公开了一种生成顶点辅助图形的方法和计算机程序产品。该方法包括：获取芯片设计版图及其几何参数，所述芯片设计版图包括稀疏图形和密集图形，所述几何参数包括密集图形的最小间距、所述稀疏图形的边长以及所述稀疏图形的待配置顶点辅助图形的顶点的坐标；根据所述几何参数，确定放置轨迹，所述放置轨迹为一圆形轨迹或多个同心圆轨迹；生成至少一个在所述放置轨迹上排列的顶点辅助图形。本申请能够避免漏放顶点辅助图形。
天眼查资料显示，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司，成立于2014年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本36401.6097万人民币。通过天眼查大数据分析，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目23次，财产线索方面有商标信息156条，专利信息398条，此外企业还拥有行政许可18个。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
