北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“用于曝光衬底边缘的系统和方法及包括该系统的光刻设备”的专利，公开号CN121444018A，申请日期为2024年6月。
专利摘要显示，本公开提供一种用于衬底边缘曝光的系统，包括：支撑台，所述支撑台用于支撑衬底且具有位于中心的开口，其中，所述支撑台被配置成热调节所述衬底；可旋转支撑单元，所述可旋转支撑单元能够在竖直方向上移动穿过所述支撑台的所述位于中心的开口；传感器，所述传感器被配置成在所述衬底由所述可旋转支撑单元支撑时检测所述衬底的边缘；以及曝光单元，所述曝光单元用于在所述衬底由所述可旋转支撑单元支撑时曝光所述衬底的边缘。所述曝光单元可以被定位成邻近于所述传感器。所述曝光单元可以被配置成相对于所述衬底的平坦表面横向地移动。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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