北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“与套刻相关的计量方法”的专利，公开号CN121444019A，申请日期为2024年6月。
专利摘要显示，一种计量方法，包括获得衬底上的第一层中的第一结构的第一绝对位置度量以及所述衬底的第二层中的第二结构的第二绝对位置度量；以及根据所述第一绝对位置度量和所述第二绝对位置度量确定以下一项或多项：曝光引起的第一层图案位移，描述由所述结构的曝光而产生的所述第一结构的位移误差；曝光引起的第二层图案位移，描述由所述结构的曝光而产生的所述第二结构的位移误差；工艺引起的第一层图案位移，描述由所述结构的处理而产生的所述第一结构的位移误差；和/或对准误差，描述用于使所述第二层与所述第一层对准的对准数据的误差。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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