北京
国家知识产权局信息显示，同方威视技术股份有限公司申请一项名为“辐射成像装置和方法”的专利，公开号CN121432569A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本申请提供了一种辐射成像装置，可以应用于辐射成像和安全检查技术领域。其包括：射线源，用于发出射线；传送装置，包括驱动装置和传送带，传送带用于承载待成像对象，驱动装置用于控制传送带带动待成像对象沿第一方向以预定的带速运动；探测器，探测器用于以预定的采样率采集从射线源发出且经过待成像对象的射线；数据处理装置，数据处理装置与探测器电连接，用于处理探测器数据生成辐射图像；控制装置，与驱动装置和探测器电连接，并被配置为：获取驱动装置的驱动脉冲信号；根据驱动脉冲信号的频率调整采样率，以使得在带速变化的情况下，待成像对象在辐射图像中的长度保持不变。本申请还提供了一种辐射成像方法。
天眼查资料显示，同方威视技术股份有限公司，成立于2000年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本18500万人民币。通过天眼查大数据分析，同方威视技术股份有限公司共对外投资了14家企业，参与招投标项目2768次，财产线索方面有商标信息297条，专利信息4190条，此外企业还拥有行政许可45个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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