北京
国家知识产权局信息显示，西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司申请一项名为“工艺腔室的判定方法及装置”的专利，公开号CN121443034A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明提供了一种工艺腔室的判定方法及装置，属于半导体制造技术领域。工艺腔室的判定方法，包括：提供衬底硅片，对衬底硅片的M个区域的金属污染值进行测量，得到第一测量结果；固定所述衬底硅片的V‑型槽位置，通过多个工艺腔室在所述衬底硅片上制备外延层，得到外延硅晶圆；对所述外延硅晶圆的M个区域的金属污染值进行测量，得到第二测量结果；对样品外延硅晶圆的M个区域的金属污染值进行测量，得到第三测量结果；根据所述第一测量结果、所述第二测量结果和所述第三测量结果，确定存在金属污染的工艺腔室。本发明能够确定外延硅晶圆的金属污染的来源，以及时进行处理，降低外延硅晶圆的异常发生率，提高外延硅晶圆的品质和设备产能。
天眼查资料显示，西安奕斯伟材料科技股份有限公司，成立于2016年，位于西安市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本403780万人民币。通过天眼查大数据分析，西安奕斯伟材料科技股份有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目7次，专利信息1505条，此外企业还拥有行政许可24个。
西安奕斯伟硅片技术有限公司，成立于2018年，位于西安市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本660000万人民币。通过天眼查大数据分析，西安奕斯伟硅片技术有限公司参与招投标项目385次，专利信息1038条，此外企业还拥有行政许可53个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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