北京
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国家知识产权局信息显示，卡尔蔡司SMT有限责任公司申请一项名为“反射镜系统、操作反射镜系统的方法和微光刻投射曝光设备的投射镜头”的专利，公开号CN121420241A，申请日期为2024年6月。
专利摘要显示，本发明关于一种反射镜系统，其包括EUV反射镜（M1‑M6），其中该EUV反射镜（M1‑M6）包括镜体（38）和形成在该镜体（38）上具有高EUV辐射反射率的光学表面（32）。该反射镜系统还包括框架结构（31），该框架结构承载该镜体（38）；流体通道（37、58），用于温控流体，其中该流体通道（37、58）在该反射镜系统的结构体（31、38）中延伸；以及供给管线（35），用于将该温控流体供给到流体通道（37、58）。该供给管线（35）具有用于温控流体温度的温度传感器（42）。该温度传感器（42）设置在该供给管线（35）的横截面外侧。本发明还关于一种操作反射镜系统的方法和一种微光刻投射曝光设备的投射镜头。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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