北京
国家知识产权局信息显示，华天慧创科技（西安）有限公司申请一项名为“一种光学模组表面涂黑遮光工艺”的专利，公开号CN121402298A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明公开的一种光学模组表面涂黑遮光工艺，涉及纳米压印对光学模组进行遮光涂覆技术领域，包括：S1、准备的成型材料与所需的油墨之间结合力低或无结合力，采用此成型材料制备得到油墨涂覆治具，油墨涂覆治具的表面上阵列有成型凹槽，成型凹槽的结构大于待处理的光学模组；S2、分别在各成型凹槽内加入所需量的油墨，将待处理的光学模组放入成型凹槽中，待油墨固化后得到表面涂黑遮光的光学模组；S3、将表面涂黑遮光的光学模组从成型凹槽中取出，对其表面所需位置处的油墨进行清洁，并显露出透光孔和芯片锡球，得到光学模组成品，以能够保证油墨与成型凹槽之间界面分离，确保了脱模过程的顺畅性和无损，提高了生产良率和效率。
天眼查资料显示，华天慧创科技（西安）有限公司，成立于2018年，位于西安市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本22222.23万人民币。通过天眼查大数据分析，华天慧创科技（西安）有限公司参与招投标项目7次，专利信息212条，此外企业还拥有行政许可9个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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