北京
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国家知识产权局信息显示，重庆市亦高光电有限公司申请一项名为“一种真空镀膜干法蚀刻方法”的专利，公开号CN121380888A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本发明公开了一种真空镀膜干法蚀刻方法，包括如下步骤：1）根据薄膜的功能属性，确定待进行蚀刻的膜层材料；2）根据待蚀刻的膜层材料，选择用于进行蚀刻工艺的蚀刻气体；3）根据选定的蚀刻气体，对待蚀刻的膜层材料进行正交试验，确定蚀刻速率；4）根据待蚀刻的膜层表面的形貌，结合蚀刻气体对应的蚀刻速率，确定蚀刻时间；5）最后，在真空环境下，对待蚀刻的膜层进行蚀刻。本发明能够降低功能性膜层表面粗糙度，使膜层表面平坦化，从而提升耐磨性能。
天眼查资料显示，重庆市亦高光电有限公司，成立于2024年，位于重庆市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，重庆市亦高光电有限公司专利信息4条。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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