中微公司预计2025年净利润同比增长约28.74%至34.93%，刻蚀与薄膜设备驱动营收增长超36%

中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）发布2025年年度业绩预告，预计全年营业收入达到约123.85亿元，同比增长约36.62%，净利润预计突破20亿元大关。在半导体前道核心设备需求强劲的推动下，该公司通过高强度的研发投入加速了高端产品的市场渗透，核心刻蚀设备与新兴薄膜设备业务均实现显著增长。

1月23日，中微公司发布公告，中微公司预计2025年度归属于母公司所有者的净利润将在20.80亿元至21.80亿元之间，较上年同期增长约28.74%至34.93%。这一业绩增长主要得益于主营业务的强劲表现，其中刻蚀设备销售额预计达98.32亿元，同比增长约35.12%。

与此同时，公司并未因追求短期利润最大化而放缓技术攻关，全年的研发投入激增至37.36亿元，研发营收占比超过30%，显示出管理层在填补关键设备国产化短板方面的激进策略。

除了核心刻蚀业务的稳健扩张，中微公司在新兴业务领域也取得了关键突破。LPCVD和ALD等半导体薄膜设备收入预计达到5.06亿元，同比大幅增长约224.23%。公司针对先进逻辑和存储器件制造的高端产品付运量显著提升，部分关键工艺设备已获得重复性订单。这一趋势表明，公司多元化的产品矩阵正在顺利进入市场验证与量产阶段，逐步成为新的业绩增长点。

尽管研发费用的剧增对当期利润率构成一定压力，但得益于毛利的显著增长以及投资收益的补充，公司整体盈利能力依然稳健。扣除非经常性损益后，归母净利润预计为15.00亿元至16.00亿元，同比增长8.06%至15.26%。这一业绩指引反映了本土设备制造商在面临下游扩产需求时的交付能力与技术迭代速度，同时也凸显了其在供应链管理和产能扩张方面的成效。

营收与利润双增

财务数据显示，中微公司2025年的业绩增长具有较强的内生动力。预计全年营业收入较2024年增加约33.19亿元，由此带来的毛利增长约11.45亿元，成为净利润上升的主要驱动力。

在非经常性损益方面，由于二级市场股价波动及公司出售部分持有的上市公司股票，预计2025年计入非经常性损益的股权投资收益为6.11亿元，较上年同期的1.98亿元增加了约4.13亿元。这一非经营性因素进一步增厚了归母净利润的账面表现。尽管如此，扣非后净利润的稳步增长表明，即便剔除投资收益影响，公司核心业务的盈利能力依然保持在上升通道。

激进的研发投入

为了应对市场对多种新设备急剧增长的需求，中微公司在2025年显著加大了研发力度。公告显示，全年研发投入约37.36亿元，较上年增长52.32%，研发投入占营业收入的比例约为30.16%，这一比例远高于科创板上市公司的平均水平。

具体来看，计入当期损益的研发费用约24.72亿元，同比激增约74.36%。公司管理层明确表示，这一高强度的投入旨在尽快弥补国产半导体设备的短板，通过积极赶超为长期的持续增长打好基础。这种以牺牲短期部分利润换取技术领先和市场份额的策略，体现了公司在激烈的行业竞争中对技术壁垒的重视。

核心业务与新产品突破

在产品线方面，刻蚀设备继续扮演公司的营收支柱角色。针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升。在CCP（电容耦合等离子体）领域，单反应台介质刻蚀产品保持高速增长，覆盖了存储器应用中的各类超高深宽比需求；在ICP（电感耦合等离子体）方面，适用于下一代逻辑和存储客户的设备开发取得进展，加工精度已达到单原子水平。预计到2025年底，公司刻蚀设备反应台全球累计出货将超过6,800台。

薄膜设备业务则呈现出爆发式增长态势。公司的CDP产品部门开发的LPCVD、ALD等十多款导体和介质薄膜设备已顺利进入市场，LPCVD设备累计出货量突破三百个反应台。此外，EPI设备已进入客户端量产验证阶段，公司在氮化镓基MOCVD设备市场保持领先地位，并积极布局碳化硅等功率器件应用市场，多款新产品验证进展顺利。

产能扩张与供应链管理

业绩的快速增长离不开产能与供应链的支撑。中微公司位于南昌约14万平方米和上海临港约18万平方米的生产研发基地已投入使用，有效保障了销售端的快速放量。

公司表示，通过持续开发关键零部件供应商，推动供应链的稳定与安全，设备交付率保持在较高水准。这种及时的交付能力在半导体行业周期波动的背景下，为销售增长提供了有力支撑。同时，公司强调运营管理水平的提升，对产品成本及运营费用的控制能力也得到有效增强。