绕开光刻机？我国强硬反制荷兰的原因找到了，首台自研设备在路上

还记得去年荷兰牵头发起的“安世之乱”吗？在面对荷兰挑衅和刁难时，中国罕见的强硬反制！当时很多网友还在担心，这样做会不会激怒荷兰，导致光刻机彻底断供。实话实说，中国在芯片制造设备方面，确实对荷兰、日本等国有比较大的依赖，“安世之乱”的发起，或许也是基于此，荷兰就是仗着光刻机技术领先，才敢如此肆无忌惮。

但万万没想到的是，中国却强硬反制，根本没有按荷兰想好的剧本方向发展，这也令荷兰瞬间失了方寸，自乱了阵脚。那么为何我国敢这样做呢？难道真的不怕被光刻机“卡脖”吗？最近的一则报告，可以解答这些疑问，我国强硬反制荷兰的原因找到了，关键设备自研成果公布，距离绕开荷兰光刻机又进了一步！

根据媒体报道，由中国原子能科学研究院主导的研究项目——串列型高能氢离子注入机，已经成功完成出束，且其核心指标均已达到国际领先水平，这是我国首台自研的串列型高能氢离子注入机，这意味着，中国在高端制造设备自主可控方面又往前迈进了一大步。

都知道，芯片制造是很复杂的过程，需要很多精密仪器的协同和配合。除了光刻机之外，离子注入机、刻蚀机以及薄膜沉淀机等缺一不可，且这些核心设备的技术研发难度都很大，如果能够实现自主可控，将摆脱对进口的依赖。这次，可以说，宣告了中国在芯片制造关键设备领域从0-1的突破，结束了被荷兰、日本、美国“卡脖”的历史，进入了自主可控的新时代。

和光刻机一样，美国、日本等在串列型高能氢离子注入机领域垄断长达30多年，而中国首台串列型高能氢离子注入机的出现，打破了这一垄断，也成为了全球第三个能够独立自研和成产该设备的国家。结合之前我国在刻蚀机、光刻机以及薄膜沉淀机等方面的自研成果，目前中国已经在芯片制造四大核心设备均做到了“自主可控”，有能力打造完全自主的12英寸生产线。

都知道，荷兰之所以认为中国无法自研光刻机，就是因为光刻机的构造太复杂，尽管是荷兰ASML公司，作为全球唯一能够生产EUV光刻机的企业，也得依赖全球供应链，其背后有数十个国家的助力。但用马斯克的话来说，中国可以做到任何事情。就算是光刻机这块难啃的骨头，中国也必定可以做到！

在荷兰、日本光刻机对华出口管制的这些年里，中国早就已经确定了“两步走”战略，只要你卖，我就买。但买不代表放弃自研，而是利用买入的设备，快速进行拆装学习，加速国产光刻机的研发，在这方面，中国拥有丰富的经验，所以说，如果荷兰认为可以用光刻机牵制住中国，可能还是太低估我们了，这场围绕芯片的科技战，中国一定会笑到最后，走着瞧吧。