北京
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国家知识产权局信息显示，武汉大学;南通海门科创投资集团有限公司申请一项名为“一种EDA布局优化方法、装置、设备及存储介质”的专利，公开号CN121365642A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本申请提供了一种EDA布局优化方法、装置、设备及存储介质，属于电子设计自动化技术领域。该方法包括：采用序列对表示法描述多个器件的拓扑关系，通过三维自旋将器件的布局问题映射到伊辛模型并构建总哈密顿量的耦合系数与外场强度；根据耦合系数与外场强度对伊辛模型进行求解以确定初始自旋构型；根据初始自旋构型识别超载器件和超载位置并根据器件的优先级排序进行自旋翻转的迭代处理以修复构型冲突，得到合法自旋构型；根据合法自旋构型确定中间布局；通过力导向优化算法对中间布局进行后处理，得到优化布局。本申请能够在缩短设计周期的同时，提高EDA布局质量与布局可靠性。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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