荷兰专家放话：EUV 光源是对华封锁终极武器？中国突破让神话破灭

近日，荷兰半导体技术专家在行业峰会抛出重磅论断 ——EUV 光源是全球半导体产业的不可复制密码，荷兰联合美国垄断这一核心技术，中国再努力也无法绕过这道壁垒。

这番言论背后，是荷兰依托 ASML 构建的技术霸权：EUV 光源作为先进光刻机的心脏，直接决定 7nm 及以下制程芯片的制造能力，而荷兰正凭借这一垄断，成为全球芯片产业格局的规则制定。

荷兰的 EUV 光源霸权，源于一套技术垄断和联盟封锁的闭环。

EUV 光源采用激光等离子体（LPP）技术路线，其核心原理是通过高功率激光轰击锡液滴，生成 13.5nm 波长的极紫外光，这一过程需攻克 “高效激发”“光谱纯化”“稳定运行” 三大世界级难题。

目前，全球商用 EUV 光源均依赖美国 Cymer 公司的二氧化碳激光方案，而 ASML 作为唯一能整合该光源的整机企业，与荷兰政府深度绑定，形成美国提供核心技术、荷兰完成整机集成、全球盟友协同封锁的格局。

荷兰通过严格的出口管制政策，不仅禁止向中国出口 EUV 光刻机整机，更封锁光源核心部件、维修服务及技术文档，甚至撤销已批准的 DUV 设备出口许可，试图从根源上切断中国先进制程的发展路径。

对荷兰而言，EUV 光源不仅是 ASML 市值飙升的核心引擎，更是其在全球科技博弈中换取战略利益的关键筹码。

然而，荷兰的垄断神话，正在被中国的技术创新逐步瓦解。

面对买不到、学不会、修不了的困境，中国科研团队正在另辟蹊径，努力走出了一条差异化突破之路。

比如中科院上海光机所团队成功研发固体激光驱动的 LPP-EUV 光源，能量转换效率达到 3.42%，不仅绕过了美国二氧化碳激光的专利壁垒，更在电光转换效率（20%）、设备紧凑性等关键指标上实现超越，达到商用光源效率的 60% 以上。

这一突破并非单点跃进：团队通过优化激光峰值功率密度控制，实现了等离子体的高效约束与稳定辐射；自主研发的 1μm 固体激光系统，核心指标超越荷兰、瑞士研究团队；配套的高精度控制系统、真空腔体等部件也实现全面国产化，形成完整技术体系。

更值得关注的是，中国同步布局多技术路线，清华大学 SSMB-EUV 光源方案验证成功，功率达 100W 级，为突破 Cymer 光源垄断提供了冗余保障。这些突破证明，中国不仅没有被封锁逼退，反而构建了多条腿走路的自主创新格局。

这场博弈的深层逻辑，是技术霸权与自主突围的终极较量。荷兰的技术封锁，本质上是对中国创新能力的误判。

中国半导体的突围之路，从来不是靠妥协换取机会，而是靠自主研发赢得尊严。未来，当国产 EUV 光刻机照亮中国芯片制造的生产线，那将是对荷兰技术霸权最有力的回应，更是全球半导体产业多极化格局到来的标志。