有投资者在互动平台向国林科技提问:“公司的半导体臭氧设备产生的臭氧能否在3D NAND存储芯片结构中形成纳米级均匀氧化层?”
针对上述提问,国林科技回应称:“尊敬的投资者,您好。公司的半导体专用臭氧系统设备能够产生高浓度、超纯净的臭氧,臭氧在电子工业领域被广泛用于形成CVD及ALD薄膜、氧化物生长等工艺环节。在3D NAND存储芯片结构中,臭氧因其高氧化性、清洁效率和环保特性,能够满足半导体制造对精度、缺陷控制和材料兼容性的严苛要求,从而实现纳米级均匀氧化层的形成。感谢您的关注。”
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本文源自:市场资讯
作者:公告君
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