广东
在半导体、微纳材料及光电子等高精尖领域，微观结构的测量精度直接关乎良率。面对复杂的微米级甚至纳米级特征，您需要一款不仅能测得准，还能测得全的设备。
NS系列台阶仪凭借其强大的通用性，覆盖以下核心应用场景：
1.半导体与微电子：无论是晶圆表面的刻蚀深度、光刻胶层厚度，还是IC封装中的Bump高度与TSV深度，均能精准捕捉。
2.微纳材料研发：针对石墨烯等二维材料的极薄厚度测量，以及微流控通道的结构表征，提供亚埃级的分辨率支持。
3.光伏与面板：适用于太阳能电池栅线高度及平板显示器触控点的微观轮廓测量，支持大200mm（8英寸）样品的真空吸附固定，满足工业级检测需求。
技术指标一览
1.亚埃级分辨率：搭载高灵敏度LVDC电容传感器，在保证大量程（最大2620μm）的同时，实现了高0.005nm（0.05Å）的垂直分辨率，精准捕捉纳米级波动。
2.恒定微测力控制：测力范围0.05mg - 50mg连续可调。低测力确保了在测量光刻胶、生物膜等软性材料时，不会划伤样品表面，保证测量的真实性。
3.高重复性：台阶高重复性达到6Å（1σ）或0.1%，确保每一次测量数据都稳定可靠。
4.高清可视化：配备500万像素高清彩色摄像机与4um的光学分辨率，让微小区域的定位与观察变得清晰直观。
无论您的样品是硬质的硅片还是软性的高分子膜，NS系列台阶仪都能助您洞察微观世界的每一个细节。
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