在半导体、微纳材料及光电子等高精尖领域,微观结构的测量精度直接关乎良率。面对复杂的微米级甚至纳米级特征,您需要一款不仅能测得准,还能测得全的设备。
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NS系列台阶仪凭借其强大的通用性,覆盖以下核心应用场景:
1.半导体与微电子:无论是晶圆表面的刻蚀深度、光刻胶层厚度,还是IC封装中的Bump高度与TSV深度,均能精准捕捉。
2.微纳材料研发:针对石墨烯等二维材料的极薄厚度测量,以及微流控通道的结构表征,提供亚埃级的分辨率支持。
3.光伏与面板:适用于太阳能电池栅线高度及平板显示器触控点的微观轮廓测量,支持大200mm(8英寸)样品的真空吸附固定,满足工业级检测需求。
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技术指标一览
1.亚埃级分辨率:搭载高灵敏度LVDC电容传感器,在保证大量程(最大2620μm)的同时,实现了高0.005nm(0.05Å)的垂直分辨率,精准捕捉纳米级波动。
2.恒定微测力控制:测力范围0.05mg - 50mg连续可调。低测力确保了在测量光刻胶、生物膜等软性材料时,不会划伤样品表面,保证测量的真实性。
3.高重复性:台阶高重复性达到6Å(1σ)或0.1%,确保每一次测量数据都稳定可靠。
4.高清可视化:配备500万像素高清彩色摄像机与4um的光学分辨率,让微小区域的定位与观察变得清晰直观。
无论您的样品是硬质的硅片还是软性的高分子膜,NS系列台阶仪都能助您洞察微观世界的每一个细节。
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