北京
国家知识产权局信息显示，浙江罗克光电科技股份有限公司申请一项名为“一种抗冲击高强度微晶玻璃及其制备方法”的专利，公开号CN121342357A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本发明公开了一种抗冲击高强度微晶玻璃及其制备方法，属于微晶玻璃技术领域。该微晶玻璃以锂铝硅系微晶玻璃为基体，表面涂覆改性聚氨酯‑二氧化硅复合涂层。制备方法包括：首先通过席夫碱反应和环氧开环合成含硅醚柔性段、三氟甲基、吡啶杂环和降冰片烯的改性扩链剂单体；然后将其与聚己二酸己二醇酯、4,4'‑二苯基甲烷二异氰酸酯等反应制备聚氨酯预聚体，再引入巯基化纳米二氧化硅，通过巯基‑烯点击化学反应形成有机‑无机杂化共混物；最后将共混物涂覆于微晶玻璃表面，经固化处理得到产品。该涂层具有微相分离结构和牢固的共价键连接，显著提升了微晶玻璃的抗冲击性、机械强度、表面硬度和耐久性，同时赋予优异的疏水疏油性。
天眼查资料显示，浙江罗克光电科技股份有限公司，成立于2009年，位于嘉兴市，是一家以从事非金属矿物制品业为主的企业。企业注册资本1626万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江罗克光电科技股份有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目18次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息73条，此外企业还拥有行政许可17个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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