24小时两条新规落地，直击高市“七寸”，外媒：光刻胶禁令成笑话

导读：24小时两条新规落地，直击高市“七寸”，外媒：光刻胶禁令成笑话

近日，日本公然宣称将修订核心防务文件，积极推动军事相关产业的发展，试图对其自战后长期奉行的稳健路线作出调整，转而迈向更具主动性的方向。

相关表态公布之后，我国迅速作出回应。商务部率先宣布，将强化对日本军民两用物项的出口管制，此管制范围涵盖上千种材料、设备以及技术。在日方的反对声浪尚未平息之际，第二波措施在24小时内迅速跟进，我国决定对原产于日本的二氯二氢硅启动反倾销立案调查。

针对这一系列情况，国内部分人士表达了担忧：日本是否会反过来在光刻胶领域对我国实施技术封锁？毕竟，光刻胶是日本最为核心的“杀手锏”之一，我国约50%的光刻胶依赖从日本进口。

光刻胶，从表面上看，仅仅是化学工业领域中的一种感光材料，然而，它却是芯片制造进程中至关重要的一环。其性能优劣，直接决定了电路图案的精细程度、生产良品率以及整体制程水平，进而对芯片的性能与成本产生深远影响。

但令人遗憾的是，这一核心环节长期以来处于受制于人的困境。根据SEMI统计数据显示，2024年我国光刻胶市场规模已攀升至128亿元，然而国产化率仍低于5%，绝大部分依赖进口。日本在全球光刻胶市场占据着绝对的主导地位，掌控了全球90%以上的高端光刻胶供应，尤其是在关键的KrF与ArF光刻胶领域。曾有日本工程师颇为自负地断言：“没有日本光刻胶，即便中国造出了光刻机，也不过是徒有其表，毫无实际作用。”

现实情况也的确印证了这一潜在威胁。自2025年下半年起，日本企业悄然采取行动，通过延长审批周期、减少供应配额等手段，收紧了对我国的光刻胶出口。部分高端ArF及EUV光刻胶甚至出现了间接停供的情况，这一现象被外媒讥讽为“中方无米下炊”。

值得注意的是，这种技术依赖的局面并非仅仅存在于半导体行业。不过，面对如此巨大的压力，我国并未选择坐以待毙。

公开信息表明，在政策扶持、市场牵引与技术革新的协同推动下，国内光刻胶产业已逐步达成从树脂、光敏剂到成品的全链条自主化，部分产品成功打入国际供应链。其中，ArF浸没式产品已斩获订单；KrF光刻胶在2025年的销售额预计可达千万元级别，良品率超过92%。

显然，日本收紧光刻胶出口，虽在短期内使市场供需矛盾更为突出，但也在一定程度上加速了我国光刻胶国产化的推进。从被“卡脖子”的困境迈向“自主化”的目标，这场围绕光刻胶的替代之战，正步入关键阶段。

前沿科技领域所取得的持续性突破，无疑为半导体等行业注入了一定的信心。然而，我们也必须保持清醒的认知。日本企业在高端光刻胶领域，于标准拟定、配方优化、设备适配以及后期服务等方面，积累了深厚的经验与优势。相较之下，国产光刻胶在技术沉淀上仍存在一定差距，仍需持之以恒地奋力追赶。

我国此次应对的底气，不仅源于国产光刻胶已能够满足部分市场需求，更在于日本在生产高端光刻胶的过程中，所必需的多种关键中间体和高纯化学品，诸如光敏剂（PAG）、高纯溶剂等，相当大一部分依赖从我国进口。一旦这些原料的供应受到限制，日本本土的光刻胶生产必将受到显著影响。

当前，日本在政治与安全领域将我国定位为“竞争对手”，并采取了激进的姿态；而在经济层面，却又期望继续维持对我国市场与资源的依赖。这种自相矛盾的做法显然难以长久维系。

从实际成效来看，日本的激进政策已然开始产生反噬效应。倘若日本继续对自身存在的短板以及周边国家的合理关切视而不见，不仅难以达成所谓的“国家发展目标”，还极有可能进一步加剧地区紧张局势，最终对其自身的长远利益造成损害。