北京
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国家知识产权局信息显示，卡尔蔡司有限公司申请一项名为“X射线显微断层成像系统的掩膜图像重建”的专利，公开号CN121330165A，申请日期为2025年7月。
专利摘要显示，通过引入图像掩膜或边界框或其它体积掩膜来节省或更好地利用存储器，从而改进迭代重建性能。这些用于减少相对于视场(FOV)，甚至可能相对于样本本身的重建体积。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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