北京
国家知识产权局信息显示，芯恩（青岛）集成电路有限公司申请一项名为“NPW样片的制备方法及其应用”的专利，公开号CN121335431A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本发明提供一种NPW样片的制备方法及其应用，在半导体基底上形成复合叠层，并通过旋转式托盘及喷头向位于复合叠层顶部的第一材料层的局部区域喷射第一刻蚀溶液以进行第一刻蚀工艺，形成贯穿第一材料层的第一凹槽，从而本发明可在不使用光罩及光刻胶的情形下，制作NPW样片，且可在同一NPW样片上、同一机台中，完成如掺杂浓度、生长速率、侧向刻蚀、粒子状况、选择性沉积及选择性刻蚀等的检测，从而可降低机台污染风险，降低研究成本，缩短研究周期，提高检测准确性，提高检测效率。
天眼查资料显示，芯恩（青岛）集成电路有限公司，成立于2018年，位于青岛市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本1006720.789212万人民币。通过天眼查大数据分析，芯恩（青岛）集成电路有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目190次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息938条，此外企业还拥有行政许可56个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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